Κενός καθαρισμός διαδικασίας εξοπλισμού επιστρώματος μηχανών κενού επιστρώματος μηχανών επιστρώματος

Το υλικό κενού πρέπει να καθαρίζεται πριν από τη διαδικασία κενού της μηχανής επικάλυψης κενού για την απομάκρυνση ρύπων από την επιφάνεια του τεμαχίου εργασίας ή του υλικού του συστήματος. ο καθαρισμός επιφάνειας των μερών της μηχανής επικάλυψης λαμπτήρων είναι επίσης απαραίτητος, επειδή οι πηγές αερίου και ατμού που προκαλούνται από τους ρύπους δεν είναι μόνο Θα καταστήσει το κενό σύστημα ανίκανο να λάβει τον απαιτούμενο βαθμό κενού. Επιπλέον, λόγω της παρουσίας προσμείξεων, θα επηρεάσει επίσης την απόδοση αντοχής και σφράγισης της σύνδεσης του εξαρτήματος κενού.

Οι ρύποι μηχανών επικάλυψης κενού μπορούν να οριστούν ως «οποιοδήποτε είδος άχρηστης ουσίας ή ενέργειας», η μηχανή επιστρώματος ιόντων πολλαπλών τόξων μπορεί να χωριστεί σε στερεά, αέρια και υγρά σύμφωνα με τη φυσική κατάσταση των ρύπων, υπάρχουν με τη μορφή φιλμ ή κοκκώδους. Όσον αφορά τα χημικά χαρακτηριστικά του, μπορεί να είναι σε ιοντική ή ομοιοπολική κατάσταση και μπορεί να είναι ανόργανο ή οργανικό.

Η επιφάνεια του επικαλυφτήρα κενού που εκτίθεται στον αέρα είναι πιο επιρρεπής σε μόλυνση. Υπάρχουν πολλές πηγές μόλυνσης. Η αρχική μόλυνση είναι συνήθως μέρος της διαδικασίας σχηματισμού της ίδιας της επιφάνειας. Τα φαινόμενα προσρόφησης, οι χημικές αντιδράσεις, οι διαδικασίες έκπλυσης και ξήρανσης, οι μηχανικές θεραπείες και οι διαδικασίες διάχυσης και διαχωρισμού συμβάλλουν στην αυξημένη επιφανειακή μόλυνση διαφόρων συστατικών. Οι πιο συνηθισμένοι τύποι προσμείξεων στην επιφάνεια των υλικών κενού είναι οι εξής.

(1)Λίπος: λιπαντικά, τέμνοντας υγρά, κενά γράσα, κ.λπ., τα οποία μολύνονται κατά τη διάρκεια της επεξεργασίας, της συνέλευσης, και της λειτουργίας

(2)Βασισμένος στο νερό: ιδρώτας χεριών κατά τη διάρκεια της λειτουργίας, υδρατμοί κατά τη διάρκεια της ανατίναξης, σάλιο, κ.λπ.

(3)Οξείδιο της επιφάνειας: το οξείδιο της επιφάνειας που σχηματίζεται από το υλικό που τοποθετείται στον αέρα ή τοποθετείται στον υγρό αέρα για μεγάλο χρονικό διάστημα

(4)Όξινες, αλκαλικές και αλμυρές ουσίες: υπολειμματικά ουσίες κατά τη διάρκεια του καθαρισμού, του ιδρώτα χεριών, των ορυκτών στο νερό κ.λπ.·

(5)Υπολείμματα στίλβωσης και σκόνης και άλλη οργανική ύλη στον ατμοσφαιρικό αέρα.

Σύμφωνα με τις απαιτήσεις, η καθαρισμένη επιφάνεια της μηχανής επικάλυψης κενού μπορεί να χωριστεί σε δύο κατηγορίες: καθαρή επιφάνεια ατομικής επιφάνειας και τεχνολογίας διεργασίας καθαρή επιφάνεια.

Η εργασία καθαρισμού που τίθεται σε ισχύ στο αρχικό στάδιο της κενής μηχανής επιστρώματος μπορεί να μειώσει πολλά προβλήματα, να αποφύγει την εμφάνιση πολλών μικρών προβλημάτων στη μηχανή επιστρώματος sputtering ελέγχου sputtering, και να έχει μια πολύ θετική επίδραση στην αποδοτικότητα εργασίας και την ποιότητα επιστρώματος της κενής μηχανής επιστρώματος. Μπορεί πολύ να βελτιώσει τη σταθερότητα εργασίας όλων των τοίχων σκαφών και άλλων επιφανειών συστατικών στο κενό σύστημα υπό διάφορες συνθήκες εργασίας. Αυτές οι συνθήκες λειτουργίας περιλαμβάνουν: υψηλή θερμοκρασία, χαμηλή θερμοκρασία και εκπομπή και βομβαρδισμό ηλεκτρονίων, ιόντων, φωτονίων ή βαρέων σωματιδίων.