Εξοπλισμός μεταλλοποίησης κενού

Είναι ασφαλείς οι επικαλύψεις PVD;

Οι διαδικασίες φυσικής εναπόθεσης ατμών είναι μια φιλική προς το περιβάλλον τεχνική ή τεχνική "επιμετάλλωσης" που μειώνει σημαντικά την ποσότητα των τοξικών ουσιών που πρέπει να χρησιμοποιηθούν, να διαχειρίζονται και να απορρίπτονται σε σύγκριση με άλλες "υγρές" διαδικασίες που περιλαμβάνουν πρόδρομες ουσίες υγρών και χημικές αντιδράσεις που χρησιμοποιούνται για να επιτευχθεί το ίδιο αποτέλεσμα. . Επειδή είναι ικανό να παράγει εξαιρετικά καθαρές, καθαρές και ανθεκτικές επικαλύψεις, η φυσική εναπόθεση ατμού είναι η τεχνολογία επιλογής για τη βιομηχανία χειρουργικών και ιατρικών εμφυτευμάτων.

Ξέρετε τι είναι η μηχανή επίστρωσης; Αναφέρεται κυρίως σε έναν τύπο επίστρωσης που πρέπει να εκτελείται υπό υψηλό βαθμό κενού, συμπεριλαμβανομένων πολλών τύπων, όπως εξάτμιση ιόντων κενού, διασκορπισμός μαγνητρονίου, επιταξία μοριακής δέσμης MBE, εναπόθεση επιμετάλλωσης λέιζερ PLD και πολλοί άλλοι.

Το σύστημα κενού περιλαμβάνει μια μηχανική αντλία, μια κρυογονική αντλία, μια βαλβίδα αδροποίησης, μια βαλβίδα πρόσθιας γραμμής, μια βαλβίδα πύλης και ένα μετρητή κενού για την ανίχνευση κενού. Κατά τη διασκορπισμό με μαγνητρόνιο, η επίδραση του αζώτου, του οξυγόνου και των υδρατμών στη διαδικασία θα πρέπει να ελαχιστοποιηθεί, επομένως ο βαθμός κενού απαιτείται να είναι κάτω από 0.13 mPa ~ 4 Pa. Χρησιμοποιούνται γενικά η αντλία Nowdry και η κρυογονική αντλία. Η ξηρή αντλία χρησιμοποιείται για την άντληση χαμηλού κενού. Σε σύγκριση με την αρχική μηχανική αντλία λαδιού, μπορεί να αποτρέψει την είσοδο λαδιού και αερίου στην αντλία λαδιού στον θάλαμο κενού, μολύνοντας το υπόστρωμα και μειώνοντας την πρόσφυση μεταξύ της μεμβράνης και του υποστρώματος. Συνήθως, αφού αντληθεί η ξηρή αντλία κάτω από 6,5 Pa, η βαλβίδα πύλης ανοίγει και η κρυογονική αντλία χρησιμοποιείται για την άντληση υψηλού κενού. Οι κρυογονικές αντλίες που χαρακτηρίζονται από υψηλή ταχύτητα άντλησης, ειδικά η ικανότητα απομάκρυνσης των υδρατμών είναι πολύ ισχυρή.

Το σύστημα επίστρωσης με διασκορπισμό αποτελείται από τροφοδοτικό συνεχούς ρεύματος, υλικό στόχο, νερό ψύξης, μόνιμο μαγνήτη, συσκευή θέρμανσης υποστρώματος, διάφραγμα, στρώμα θωράκισης κ.λπ. Το τροφοδοτικό συνεχούς ρεύματος παρέχει αρνητική υψηλή τάση 300-1 000 V και την εφαρμόζει στον στόχο, έτσι ώστε ο στόχος στην κάθοδο και το υπόστρωμα να βρίσκεται στην άνοδο. Το νερό ψύξης χρησιμοποιείται για την ψύξη του υλικού στόχου για να αποτραπεί η υπερβολική άνοδος της θερμοκρασίας στόχου λόγω εκτόξευσης. Ο αγωγός νερού ψύξης θα πρέπει να είναι κατασκευασμένος από μονωτικά υλικά όπως πλαστικούς σωλήνες και όχι μεταλλικούς σωλήνες. Η συσκευή θέρμανσης υποστρώματος μπορεί να αφαιρέσει ακαθαρσίες όπως υδρατμούς στο υπόστρωμα, οι οποίες μπορούν να βελτιώσουν την πρόσφυση μεταξύ του φιλμ και του υποστρώματος. Επιπλέον, για ορισμένα μέταλλα, μια κατάλληλη θερμοκρασία μπορεί να βελτιώσει την ποιότητα του φιλμ.

Εφαρμογή

Παράμετρος

Η ΕΤΑΙΡΕΙΑ μας

Δημοφιλείς Ετικέτες: εξοπλισμός μεταλλοποίησης κενού, Κίνα, προμηθευτές, κατασκευαστές, εργοστάσιο, προσαρμοσμένο, αγορά, τιμή, προσφορά